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商品編號:
DMC2042
商品名稱:
edu磨課師+ 半導體智慧製造 講師:趙天生 國立陽明交通大學電子物理系教授 影音教學 中文發音 繁體中文版(DVD版)
語系版本:
中文發音繁體中文版
運行平台:
官方原版畫質MP4檔,沒有任何平台限制,終身使用
官方網站:
https://xyz88.app
更新日期:
2025-05-01
碟片數量:
1片
銷售價格:
100
瀏覽次數:
74
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edu磨課師+ 半導體智慧製造 講師:趙天生 國立陽明交通大學電子物理系教授 影音教學 中文發音 繁體中文版(DVD版)

edu磨課師+ 半導體智慧製造 講師:趙天生 國立陽明交通大學電子物理系教授 影音教學 中文發音 繁體中文版(DVD版)

內容說明:
【課程簡介】
開課學校/機構:國立陽明交通大學
課程發展年度:2023
課程類別:應用科學_奈米科技

半導體製程與元件製備是整個半導體技術發展與製造最重要的部分。
在這門課程中, 將從最基本的半導體如何清洗潔淨 (cleaning) 開始, 包含濕式與乾式清洗與防治汙染技術。
之後學習如何做隔離 (isolation),整個隔離技術發展歷史及演進。

【先備能力】
基礎物理、基礎微積分
【學習目標】
學生學習過本課程後,能夠認識「半導體晶圓潔淨技術」以及「絕緣技術」,並且對以下觀念有基本認識:
(1) 半導體潔淨技術的歷史演變
(2) 乾式與濕式潔淨技術基本原理
(3) 絕緣技術的曝光蝕刻原理
【授課教師】
趙天生

任職單位
國立陽明交通大學電子物理系教授

簡述
研究專長
1. 半導體元件物理
2. 深次微米前段元件製程
3. 奈米元件製作
4 薄膜電晶體
5. 超薄絕緣層製備
6. 半導體晶圓潔淨技術 課程內容:
001_1-1-1-Introduction.mp4
002_1-1-2-Requirements-for-silicon-wafer-cleaning-process.mp4
003_1-1-3-Sources-and-related-effect-of-various-contaminations.mp4
004_1-2-1-Basic-concept-of-wafer-cleaning-technology.mp4
005_1-2-2-Technician-in-cleaning-room.mp4
006_1-2-3-Oxide-defect-density-vs.-iron-contamination.mp4
007_1-2-4-Ozone-in-DI-water.mp4
008_1-3-1-Wafer-wet-cleaning.mp4
009_1-3-2-Deposition-of-particle-onto-wafer-surface-as-a-function-of-PH.mp4
010_1-3-3-Dielectric-breakdown-field-as-a-Function-of-roughness.mp4
011_1-3-4-Dump-rinse.mp4
012_1-4-1-Alternative-to-RCA-clean.mp4
013_1-4-2-Problem-of-wet-technology.mp4
014_1-5-1-Dry-cleaning.mp4
015_1-5-2-Summary-of-dry-cleaning-methods.mp4
016_1-6-Conclusion.mp4
017_2-1-1-Introduction.mp4
018_2-1-2-Diffusion-junction-and-planar-process.mp4
019_2-1-3-Evolution-I-(Junction-isolation).mp4
020_2-1-4-Evolution-II--(Field-oxide)-(1).mp4
021_2-1-5-Evolution-II--(Field-oxide)-(2).mp4
022_2-2-1-Evolution-III-LOCOS.mp4
023_2-2-2-Problems-for-channel-stop-implants.mp4
024_2-2-3-Kooi-effect.mp4
025_2-3-1-Advantages-of-shadow-trench-isolation.mp4
026_2-3-2-Stack-and-trench-etch.mp4
027_2-3-3-Different-steps-in-a-typical-STI-flow.mp4
028_2-3-4-Linear-oxidation-and-corner-rounding.mp4
029_2-3-5-Needs-sacrificial-oxide.mp4
030_2-3-6-CVD-oxide-refill.mp4
031_2-3-7-CMP-and-HF-dip.mp4
032_2-3-8-Related-issues-on-CMP.mp4
033_2-4-1-Silicon-on-insulator.mp4
034_2-4-2-Unibond-process-flow.mp4
035_2-4-3-Isolation-technology-for-SOI.mp4
036_2-4-4-LOCOS-isolation.mp4
037_2-4-5-Effect-of-BOX-thickness-on-device-reliability.mp4
038_2-4-6-Depleted-SOI-CMOS-technology.mp4
039_2-5-Bulk-FinFETs-STI.mp4
040_2-6-Summary.mp4
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